半导体超纯水设备出水水质应符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子行业电子级水质技术标准(18MΩ. cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、我国电子行业超纯水水质试制标准、半导体行业纯水指标、集成电路水质标准。本项目设计采用“原水+盘式过滤器+超滤系统+反渗透系统+EDI系统+抛光混床处理系统”的主要处理工艺组合,出水稳定达到生产用水标准。

  柱超滤(UF)是以压力为驱动力的膜分离技术之一,常用于高精度纯水处理设备的预处理系统中,以分离大小分子为目的,并取得了有效的效果。

  项目概况处理规模:40000m3/d生产时间:2019年8月原水类型:自来水运行方式:运行30min,水反冲洗1min处理工艺:原水-盘式过滤-超滤-两级反渗透-EDI-抛光混床用途:生产水系统水质设计项目超滤系统一级RO二级RO混床系统设计水质<600μs/cm<20μs/cm<5μs/cm>15MΩ. cm产品介绍该项目设计处理水40000m3/d,采用478个LH4-1080-V柱超滤膜组件,膜材料为PVC合金超滤膜,用于4个纯水车间,2019年8月竣工并进入实践运行。经验分享在超纯水制造工艺中,传统的预处理方法为“多介质过滤器+活性炭过滤器”。本项目采用“粗滤+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分,优势凸显。

半导体行业重中之重的超纯水处理工艺!

  效果好:传统预处理工艺中的SDI值不易控制,一般大于5,不利于后续一次反渗透系统的运行。超滤装置出水的SDI值比较稳定,通常保证SDI<3,可以有效保证一次反渗透系统的运行。

  占地面积小:传统的预处理方式占地面积大,积聚面积大,而“粗过滤器+超滤装置”占地面积小,积聚面积小,节省基建成本;降低人力物力成本:传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力物力,相比较而言,超滤装置的更换方便,大大降低了人力物力成本。

  综合的一次性投资成本和后期运维成本,使运行更高效:近年来,由于超滤技术的不断成熟,系统可以稳定安全地运行,超滤膜的价格也大大降低。通过将一次性投资成本和后期运维成本相结合,超滤膜可以有效保证后处理设备的安全,延长设备的使用寿命。