如果进水中含有大量的钙、镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2和较高的pH值，沉淀速度就会加快。在这种情况下，我们可以通过化学清洗对EDI膜进行清洗，使其恢复到原来的技术特性。
整个EDI系统通常判断EDI膜块被污染堵塞，可以从以下几个方面进行评估和判断：在进口温度和流量不变的情况下，进口侧和产水侧的压差比原始数据源高45%。在进口温度和流量不变的情况下，浓缩水进口侧和浓缩水排水侧的压差比原始数据源高45%。
在入口温度、流量和电导率不变的情况下，水质（电阻率）明显下降；在入口温度和流量不变的情况下，浓缩水的排放流量下降了35%。
组件分解图中膜块堵塞的原因主要有以下几种形式：颗粒/胶体污染；无机污染；有机污染；微生物污染。（EDI清洗注意事项：清洗或消毒前，请选择合适的化学药剂，并熟悉安全操作规程。请勿在未切断组件电源的状态下进行化学清洗。）详情如下：当颗粒/胶体污染的进水颗粒度≥5μm时，会造成进水通道堵塞，造成膜块内部水流分布不均，导致膜块整体性能降低。如果EDI膜块的进水口不直接从RO产水端进入EDI膜块，而是通过RO产水箱由增压泵供给，建议在EDI膜块前端增加安全过滤器（≤0.2μm）。
在组装EDI设备时，应对所有连接的管道系统进行冲洗，以防止管道中的颗粒杂质进入膜块。无机结垢如果EDI进水中含有较多的溶质并超过设计值或回收率超过设计值，将导致浓水室和阴极室结垢，导致盐物质沉淀。通常，结垢的类型是钙和镁离子形成的碳酸盐。即使这种物质的浓度很小，接触时间很短，但随着运行时间的积累，仍然存在结垢的可能性，这种硬度结垢可以通过酸洗轻松去除。
浓水室和阴极室的结垢可以通过低pH值溶液循环清洗系统来去除，当进水中的铁和锰含量，或TDS高的水进入EDI膜块时，淡水室中的离子交换树脂或浓水室也会形成无机污垢，有机污垢当进水中有机污染物TOC或TEA含量超过设计标准时，淡水室的离子交换树脂和离子膜会发生有机污垢。
淡水室和浓缩水室可以用高pH值药水清洗，可以去除离子交换树脂中的有机分子来清洗这种污垢。微生物污垢当设备的运行环境适合微生物的生长，或者当进水中有较多的细菌和藻类时，EDI膜块和系统也会受到微生物污垢的影响。
可以用高PH盐水清洗，对于以下是清洗方案选择表：每种清洗方式的时间：清洗单个模块时的液体剂量：注：对于大于1的膜块数量，将膜块数量乘以表中的液体剂量数量。
清洁化学品的规格：所有化学品必须达到推荐等级或更高。安全注意事项配置清洁溶液时必须穿戴防护服、防护眼镜和防护手套。
需要清洗的设备管道必须与其他连接设备的连接管道完全隔离。需要清洗的设备必须完全切断电源并有安全警告“正在运行，没有电源”。整个清洗过程中清洗的工作压力不能超过0.15MPa。
清洗设备部件清洗循环泵（耐腐蚀泵）清洗水箱（PP）耐腐蚀清洗软管（适用于清洗泵）耐腐蚀阀门（UPVC）耐腐蚀压力表过滤器（≤1μm）工具：pH试纸（Extensive）；温度计；计时器清洗方案浓缩水室中的刻度清洗记录清洗前的所有数据。分离EDI设备与其他设备的连接线连接清洗装置，使清洗泵通过浓缩水管道进入EDI膜块，然后返回清洗水箱。打开浓缩水进出口阀，关闭EDI淡水进水阀和生产水阀
在清洗水箱中配置2%盐酸清洗液。启动清洗泵，调整浓缩水进水阀，按规定流量循环清洗（酸洗步骤）。
（见附表）停止清洗泵，清空清洗槽清洗废液，将浓缩水排放阀分离到天沟，向清洗槽内连续注入清水（RO产水），启动清洗泵的连续清洗（冲洗步骤），打开EDI进水阀和产水阀，同时冲洗两个水室。
检测浓缩水出口侧的水质，直到与进口侧的电导率相似。10.恢复每个阀门的原始设计流量数据。1恢复EDI的每个管道与其他系统之间的连接。
1打开PLC控制柜电源，给EDI膜块送电，转入正常运行，并做好初始运行的数据记录，模块结垢淡水室结垢清洗记录清洗前的所有数据，将EDI设备与其他设备之间的连接管道分开连接清洗装置，使清洗泵通过进水管进入EDI膜块淡水室和浓缩水室，然后返回清洗水箱，打开所有进出水阀门。
在清洗水箱中配置2%浓度的盐酸清洗液，启动清洗泵，分别调节浓缩水和进水阀门，按规定流量循环清洗（酸洗步骤）。
（见附表）停止清洗泵，清空清洗槽清洗废液，并将浓缩水排放阀分离到天沟内，不断向清洗槽内注入清水（RO采出水），启动清洗泵的连续清洗（冲洗步骤），分别测试清水和浓缩水出水侧的水质，直至导电性与进水侧相似。
调整各阀门，恢复原设计流量数据。10.停机，恢复EDI各管道与其他系统的连接。
1打开PLC控制柜电源，给EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直到电阻率达到出水要求。1转入正常运行，并做好初始运行的数据记录。
清洗前记录所有数据。分离EDI设备和其他设备之间的连接线。
连接清洗装置，使清洗泵通过进水管进入EDI膜块的淡水室和浓缩水室，然后返回清洗水箱，打开所有的进水和出水阀门。在清洗水箱中配置1%浓度的氢氧化钠（NaOH）+2%盐（NaCl）清洗液。
启动清洗泵，分别调整浓缩水和进水阀，按规定流量循环清洗（洗碱步骤）（见附表）停止清洗泵，清空清洗水箱清洗废液，分离浓缩水排水阀至天沟，连续向清洗水箱注入清水（RO产水），启动清洗泵持续清洗（冲洗步骤）。
分别检测采出水出水侧和浓缩水的水质，直到电导率接近入口侧。调整每个阀门以恢复原始设计流量数据。
10、停机，恢复EDI各管道与其他系统的连接。1打开PLC控制柜电源，给EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直到电阻率达到出水要求。
1转入正常运行并记录初始运行的数据。化工厂运行中的EDI系统在清洗前记录所有数据。
分离EDI设备与其他设备的连接线。连接清洗装置，使清洗泵通过进水管进入EDI膜块的淡水室和浓缩水室，然后返回清洗水箱，打开所有的进水和出水阀门。
在清洗水箱中配置2%盐酸清洗液，启动清洗泵，分别调整浓缩水和进水阀，按规定流量循环清洗（酸洗步骤），见附表）停止清洗泵，清空清洗水箱清洗废液，将浓缩水排水阀分离到天沟。
连续向清洗水箱中注入清洁水（RO采出水），开始清洗泵的连续清洗（冲洗步骤），分别检测采出水和浓缩水出水侧的水质，直到与进水侧的电导率相近为止。
10、启动清洗泵，分别调节浓缩水、进水阀门，至规定流量循环清洗（碱洗步骤）。
（见附表）1停止清洗泵，清空清洗槽清洗废液，将浓缩水排放阀分离到天沟1向清洗槽内连续注入清水（RO采出水），启动清洗泵的连续清洗（冲洗步骤）1分别检测采出水和浓缩水出水侧的水质，直到与进水侧的电导率相似。
1调整各阀门，恢复原设计流量数据。1停机，恢复EDI各管道与其他系统的连接。
1打开PLC控制柜电源，给EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直到电阻率达到出水要求1转入正常运行，第一次运行做好数据记录，SUEZ工业通用系列模块由于微生物污染严重，污垢严重，清洗前记录所有数据。
分离EDI设备与其他设备的连接管道连接清洗装置，使清洗泵通过进水管进入EDI膜块的淡水室和浓缩水室，然后返回清洗水箱，打开所有的进水和出水阀门。在清洗水箱中配置2%浓度的盐酸清洗液。启动清洗泵，分别调整浓缩水和进水阀门，以规定的流量循环清洗（酸洗步骤）。
停止清洗泵，清空清洗水箱，将浓缩水排放阀分离到天沟，不断向清洗水箱内注入清水（RO产水），开始清洗泵的连续清洗（冲洗步骤）。
分别检测淡水和浓缩水出水侧的水质，直到电导率与进水侧相近。在清洗水箱中配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液。10.启动清洗泵，调整淡水和浓缩水进水阀门，以规定的流量（洗盐步骤）循环清洗。
（见附表）1停止清洗泵，清空清洗槽清洗废液，将产水和浓缩水放水阀分离到天沟1连续向清洗槽内注入清水（RO产水），开始清洗泵的连续清洗（冲洗步骤）1分别检测产水和浓缩水出水侧水质，直至导电性与进水侧相似。
1在清洗水箱中配置0.04%浓度的过氧乙酸（CH3COOOH）+0.2%过氧化氢（H2O2）清洗液1启动清洗泵，分别调整淡水和浓缩水进水阀门，按规定流量循环清洗（消毒步骤）1停止清洗泵，清空清洗水箱清洗废液，将浓缩水排水阀分离到天沟。
1连续向清洗水箱中注入清洁水（RO采出水），启动清洗泵进行连续清洗（冲洗步骤）1分别检测采出水和浓缩水出水侧的水质，直到导电性与进水侧相似为止。
1在清洗水箱中配置2%浓度的盐（NaCl）清洗液20、启动清洗泵，调整淡水和浓缩水进水阀门，按规定流量循环清洗（洗盐步骤）2、停止清洗泵，清空清洗水箱清洗废液，将生产水和浓缩水排水阀门分离到天沟。
2连续向清洗水箱中注入清洁水（RO采出水），启动清洗泵进行连续清洗（冲洗步骤）2分别检测采出水和浓缩水出水侧的水质，直到与进水侧的电导率相近为止。
2调整各阀门，恢复原设计流量数据。2停机，恢复EDI各管道与其他系统的连接。
2打开PLC控制柜电源，给EDI膜块送电，进行再生（再生步骤），直到电阻率达到出水要求。2转入正常运行，并做好初始运行的数据记录。
